百级洁净烘箱
BXDH-180F
用于半导体制造中硅片、砷化镓、铌酸锂、玻璃等材料涂胶前的预处理烘烤、涂胶后坚膜烘烤和显影后的高温烘烤；也适用于电子

百级洁净烘箱

BXDH-180F

用于半导体制造中硅片、砷化镓、铌酸锂、玻璃等材料涂胶前的预处理烘烤、涂胶后坚膜烘烤和显影后的高温烘烤；也适用于电子液晶显示、LCD、CMOS、IS、医药、实验室等生产及科研部门；也可用于非挥发性及非易燃易爆物品的干燥、热处理、老化等其他高温试验。

一．主要技术指标

1.1、温度范围： 室温＋30℃～200℃；升温速率：3-6℃/min

1.2、温度波动度：±0.5℃；

1.3、温度均匀度：100℃±2℃、200 ℃±4℃、250℃±5℃，（空载恒温20min后检测）；

1.4、工作室尺寸（单腔）：600（宽）*500（深）*600（高）mm；

1.5 、采用日本"富士"温度控制器，控制器液晶显示及设定、PID 自动演算、薄膜设定，精确度±0.3%FS；

1.6、洁净度（class）：100

1.7、功率：12.0KW

1.8、电源：380V/50Hz

二、 气流控制方式：

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2.1、强制循环通风，控制系统根据设定之温度点通过PID自动运算输出的结果去控制加热器的输出量，最终达到平衡

2.2、气流循环装置：内置空调间、循环风道及通风电机；

2.3、加热方式：采用进口覆套式电热器（SHEATHED HEATER）无尘无氧化电热发生器。

2.4、隔板要求：每个腔体配二个隔板，用不锈钢板冲孔制成，隔板四边与箱体紧密接触。

三、箱体结构

3.1、箱体外壁材料：外箱采用优质冷轧板喷塑，耐腐蚀，美观大方；

3.2、箱体内壁材料：采用优质不锈钢板全周氩弧焊，并经碱性苏打水清洁，有效防止机台本身灰尘的产生；

3.3、保温材料：采用特细超白玻璃纤维120K级高密度保温棉填充，有效地防止了热能浪费。